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  Plasma and surface modeling of the deposition of hydrogenated carbon films from low-pressure methane plasmas

Möller, W. (1993). Plasma and surface modeling of the deposition of hydrogenated carbon films from low-pressure methane plasmas. Applied Physics A - Materials Science & Processing, 56(6), 527-546. doi:10.1007/BF00331402.

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基本情報

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資料種別: 学術論文

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作成者

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 作成者:
Möller, W.1, 著者           
所属:
1Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288              

内容説明

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資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 1993
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子(DOI, ISBNなど): eDoc: 633797
DOI: 10.1007/BF00331402
URI: http://link.springer.com/article/10.1007%2FBF00331402
 学位: -

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出版物 1

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出版物名: Applied Physics A - Materials Science & Processing
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: -
ページ: - 巻号: 56 (6) 通巻号: - 開始・終了ページ: 527 - 546 識別子(ISBN, ISSN, DOIなど): -