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  Plasma and surface modeling of the deposition of hydrogenated carbon films from low-pressure methane plasmas

Möller, W. (1993). Plasma and surface modeling of the deposition of hydrogenated carbon films from low-pressure methane plasmas. Applied Physics A - Materials Science & Processing, 56(6), 527-546. doi:10.1007/BF00331402.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-9275-8 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-9276-6
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Möller, W.1, Autor           
Affiliations:
1Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 1993
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 633797
DOI: 10.1007/BF00331402
URI: http://link.springer.com/article/10.1007%2FBF00331402
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Applied Physics A - Materials Science & Processing
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 56 (6) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 527 - 546 Identifikator: -