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  Plasma-Enhanced Chemical-Vapor-Deposition

Möller, W. (1993). Plasma-Enhanced Chemical-Vapor-Deposition. Applied Physics A - Materials Science & Processing, 56(6), 469-469. doi:10.1007/BF00331397.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-9277-4 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-9278-2
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Möller, W.1, Autor           
Affiliations:
1Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 1993
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 633798
DOI: 10.1007/BF00331397
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Applied Physics A - Materials Science & Processing
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 56 (6) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 469 - 469 Identifikator: -