Sputtering behavior of boron and boron carbide

Hechtl, E.; Mazanec, A.; Eckstein, W.; Roth, J.; Garcia-Rosales, C.

doi:10.1016/S0022-3115(06)80129-7

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Sputtering behavior of boron and boron carbide

Hechtl, E., Mazanec, A., Eckstein, W., Roth, J., & Garcia-Rosales, C. (1992). Sputtering behavior of boron and boron carbide. Journal of Nuclear Materials, 196-198, 713-716. doi:10.1016/S0022-3115(06)80129-7.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-9484-3 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-E2EE-4

Genre: Zeitschriftenartikel

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Urheber:
Hechtl, E., Autor
Mazanec, A., Autor
Eckstein, W.¹, Autor
Roth, J.¹, Autor
Garcia-Rosales, C.¹, Autor

Affiliations:
1Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288

Inhalt

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Schlagwörter: 10th International Conference on Plasma Surface Interactions in Controlled Fusion Devices (PSI 10), Montery, CA, 1992-03-30 to 1992-04-03

Zusammenfassung: -