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  Micro-Nanostructured Interfaces Fabricated by the Use of Inorganic Block Copolymer Micellar Monolayers as Negative Resist for Electron Beam Lithography

Glass, R., Arnold, M., Blümmel, J., Küller, A., Möller, M., & Spatz, J. P. (2003). Micro-Nanostructured Interfaces Fabricated by the Use of Inorganic Block Copolymer Micellar Monolayers as Negative Resist for Electron Beam Lithography. Advanced Functional Materials, 13, 569-575. doi:10.1002/adfm.200304331.

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Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Glass, Roman1, Autor
Arnold, Marco1, Autor
Blümmel, Jacques1, Autor
Küller, A.2, Autor
Möller, Martin3, Autor
Spatz, Joachim P.1, 4, Autor           
Affiliations:
1Biophysical Chemistry, Institute of Physical Chemistry, University of Heidelberg, 69120 Heidelberg, Germany, ou_persistent22              
2Institute for Physical Chemistry, Applied Physical Chemistry, INF 253, University of Heidelberg, D-69120 Heidelberg, Germany, ou_persistent22              
3Deutsches Wollforschungsinstitut at the RWTH Aachen, Veltmanplatz 8, D-52062 Aachen, Germany, ou_persistent22              
4External Organizations, ou_persistent22              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2003-07
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: DOI: 10.1002/adfm.200304331
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Advanced Functional Materials
  Andere : Adv. Funct. Mater.
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: Weinheim : Wiley-VCH Verlag GmbH
Seiten: - Band / Heft: 13 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 569 - 575 Identifikator: ISSN: 1616-301X
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954925596563