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  Nanofabrication of optical elements for SXR and EUV applicatins: ion beam lithography as a new approach

Lenz, J., Krupp, N., Wilhein, T., & Irsen, S. (2011). Nanofabrication of optical elements for SXR and EUV applicatins: ion beam lithography as a new approach. In 10th Interantional Conference on X-Ray Microscopy (pp. 104-107).

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-60DC-2 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-60DD-F
Genre: Konferenzbeitrag

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Lenz, J.1, Autor           
Krupp, N.1, Autor           
Wilhein, T., Autor
Irsen, S.1, Autor           
Affiliations:
1Electron Microscopy and Analytics, Center of Advanced European Studies and Research (caesar), Max Planck Society, ou_2173680              

Inhalt

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Details

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Sprache(n):
 Datum: 2011
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: -
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Titel: 10th Interantional Conference on X-Ray Microscopy
Veranstaltungsort: -
Start-/Enddatum: 2011

Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: 10th Interantional Conference on X-Ray Microscopy
Genre der Quelle: Konferenzband
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 1365 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 104 - 107 Identifikator: -