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  Adsorption and Desorption of Oxygen and Carbon Monoxide on the Si(111) Surface Studied by Ion Scattering Spectroscopy

Onsgaard, J., Heiland, W., & Taglauer, E. (1980). Adsorption and Desorption of Oxygen and Carbon Monoxide on the Si(111) Surface Studied by Ion Scattering Spectroscopy. Surface Science, 99, 112.

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Urheber

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 Urheber:
Onsgaard, J.1, Autor
Heiland, W.2, Autor           
Taglauer, E.3, Autor           
Affiliations:
1External Organizations, ou_persistent22              
2Experimental Plasma Physics 2 (E2), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856292              
3Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288              

Inhalt

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Details

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Sprache(n):
 Datum: 1980
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: -
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Surface Science
Genre der Quelle: Zeitschrift
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Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 99 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 112 Identifikator: -