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  Physical and Chemical Sputtering of Graphite and SiC by Hydrogen and Helium in the Energy Range of 600_keV to 7500_keV

Roth, J., Bohdansky, J., Poschenrieder, W., & Sinha, M. (1976). Physical and Chemical Sputtering of Graphite and SiC by Hydrogen and Helium in the Energy Range of 600_keV to 7500_keV. Journal of Nuclear Materials, 63, 222-229.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-B8A4-6 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0008-2DAC-5
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Roth, J.1, Autor           
Bohdansky, J.1, Autor           
Poschenrieder, W.2, Autor           
Sinha, M.K.3, Autor
Affiliations:
1Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288              
2Experimental Plasma Physics 3 (E3), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856291              
3External Organizations, ou_persistent22              

Inhalt

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Details

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Sprache(n):
 Datum: 1976
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: -
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Journal of Nuclear Materials
  Untertitel : 2nd International Conference on Plasma Surface Interactions in Controlled Fusion Devices (PSI 2), San Francisco, 1976-02-16 to 1976-02-20
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 63 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 222 - 229 Identifikator: -