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  Light-Ion Sputtering Yield Measurements of Ti and TiC under O_sub.2 Exposure at High Temperature

Santaniello, A., Bohdansky, J., & Roth, J. (1989). Light-Ion Sputtering Yield Measurements of Ti and TiC under O_sub.2 Exposure at High Temperature. Journal of Nuclear Materials, 162-164, 951-956.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-C1A9-6 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0007-FFDE-1
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Santaniello, A.1, Autor           
Bohdansky, J.1, Autor           
Roth, J.1, Autor           
Affiliations:
1Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288              

Inhalt

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Details

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Sprache(n):
 Datum: 1989
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: -
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Journal of Nuclear Materials
  Untertitel : 8th International Conference on Plasma Surface Interactions in Controlled Fusion Devices 2012 (PSI 8), Jülich, 1988-05-02 to 1988-05-06
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 162-164 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 951 - 956 Identifikator: -