Plasma Deposition of Thin Hydrogenated Carbon Films in an Experimental ECR 
Device

Jacob, W.; D'Agostino, R.; Boutard, D.; Dose, V.; Koch, A.; Moeller, W.; Renz, W.; Wilhelm, R.

Plasma Deposition of Thin Hydrogenated Carbon Films in an Experimental ECR Device

Jacob, W., D'Agostino, R., Boutard, D., Dose, V., Koch, A., Moeller, W., Renz, W., & Wilhelm, R. (1989). Plasma Deposition of Thin Hydrogenated Carbon Films in an Experimental ECR Device. 9.International Symposium on Plasma Chemistry, Vol. 3, 1826-1831.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-C355-1 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-C356-0

資料種別: 会議論文

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Jacob, W.¹, 著者
D'Agostino, R.², 著者
Boutard, D.², 著者
Dose, V.^{1, 3}, 著者
Koch, A.², 著者
Moeller, W.¹, 著者
Renz, W.², 著者
Wilhelm, R.⁴, 著者

所属:
1Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288
2External Organizations, ou_persistent22
3Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856284
4Technology (TE), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856318

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日付: 出版: 1989

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出版物名: 9.International Symposium on Plasma Chemistry

種別: 学術雑誌

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ページ: - 巻号: Vol. 3 通巻号: - 開始・終了ページ: 1826 - 1831 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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