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  Plasma Deposition of Thin Hydrogenated Carbon Films in an Experimental ECR Device

Jacob, W., D'Agostino, R., Boutard, D., Dose, V., Koch, A., Moeller, W., et al. (1989). Plasma Deposition of Thin Hydrogenated Carbon Films in an Experimental ECR Device. 9.International Symposium on Plasma Chemistry, Vol. 3, 1826-1831.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-C355-1 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-C356-0
Genre: Konferenzbeitrag

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Jacob, W.1, Autor           
D'Agostino, R.2, Autor
Boutard, D.2, Autor
Dose, V.1, 3, Autor           
Koch, A.2, Autor
Moeller, W.1, Autor           
Renz, W.2, Autor
Wilhelm, R.4, Autor           
Affiliations:
1Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288              
2External Organizations, ou_persistent22              
3Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856284              
4Technology (TE), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856318              

Inhalt

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Details

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Sprache(n):
 Datum: 1989
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: -
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Titel: ISPC-9
Veranstaltungsort: Pugnochiuso (IT)
Start-/Enddatum: 1989-09-04 - 1989-09-08

Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: 9.International Symposium on Plasma Chemistry
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: Vol. 3 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 1826 - 1831 Identifikator: -