The Production of Highly Ionized, Low Density Plasmas by Means of Strong 
Ultraviolet Radiation

Pecorella, F.; Vlases, G.C.

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The Production of Highly Ionized, Low Density Plasmas by Means of Strong Ultraviolet Radiation

Pecorella, F., & Vlases, G. (1969). The Production of Highly Ionized, Low Density Plasmas by Means of Strong Ultraviolet Radiation. Physics Letters, A, 28, 616.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-C600-7 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-C601-5

資料種別: 学術論文

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作成者:
Pecorella, F.¹, 著者
Vlases, G.C.², 著者

所属:
1Max Planck Institute for Plasma Physics, ou_persistent27
2External Organizations, ou_persistent22

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日付: 出版: 1969

出版の状態: 出版

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査読: -

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学位: -

訴訟

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出版物 1

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出版物名: Physics Letters, A

種別: 学術雑誌

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出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 28 通巻号: - 開始・終了ページ: 616 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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