Evaluation of an Advanced Silicon Doped CFC for Plasma Facing Material

Wu, C.H.; Varandas, C.; Alessandrini, C.; Serra, F.; Bonal, P.; Grote, H.; Balden, M.; Vieider, G.; et al.,

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Evaluation of an Advanced Silicon Doped CFC for Plasma Facing Material

Wu, C., Varandas, C., Alessandrini, C., Serra, F., Bonal, P., Grote, H., et al. (1997). Evaluation of an Advanced Silicon Doped CFC for Plasma Facing Material. Fusion Technology, Vol. 1, 327-330.

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-D099-2 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0010-20F7-3

Genre: Konferenzbeitrag

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Urheber

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Urheber:
Wu, C.H.¹, Autor
Varandas, C.¹, Autor
Alessandrini, C.¹, Autor
Serra, F.¹, Autor
Bonal, P.¹, Autor
Grote, H.^{2, 3, 4}, Autor
Balden, M.⁵, Autor
Vieider, G.¹, Autor
et al.¹, Autor

Affiliations:
1External Organizations, ou_persistent22
2Experimental Plasma Physics 2 (E2), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856292
3W7-X: Construction, Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856314
4Plasma Diagnostics Group (HUB), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856324
5Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288

Inhalt

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Details

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Datum: Erschienen: 1997

Publikationsstatus: Erschienen

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Ort, Verlag, Ausgabe: -

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Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Titel: 19. SOFT

Veranstaltungsort: Amsterdam Lisbon (PT)

Start-/Enddatum: -

Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Fusion Technology

Genre der Quelle: Zeitschrift

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Ort, Verlag, Ausgabe: Elsevier

Seiten: - Band / Heft: Vol. 1 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 327 - 330 Identifikator: -