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  ECR Plasmas for Thin-Film Depostition

Wilhelm, R., Schlueter, H., & Shivarova, A. (1999). ECR Plasmas for Thin-Film Depostition. In Advanced Technologies Based on Wave and Beam Generated Plasmas (pp. 111-122). Kluwer Academic Publ.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-D2C1-3 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-D2C2-1
Genre: Buchkapitel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Wilhelm, R.1, Autor           
Schlueter, H.2, Autor
Shivarova, A.2, Autor
Affiliations:
1Technology (TE), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856318              
2External Organizations, ou_persistent22              

Inhalt

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Details

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Sprache(n):
 Datum: 1999
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: -
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Advanced Technologies Based on Wave and Beam Generated Plasmas
Genre der Quelle: Buch
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: Kluwer Academic Publ.
Seiten: - Band / Heft: 67 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 111 - 122 Identifikator: -