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  Stress pattern recognition in cochlear implanted children

Vavatzanidis, N., Mürbe, D., & Hahne, A. (2015). Stress pattern recognition in cochlear implanted children. Talk presented at 18. Jahrestagung der Deutschen Gesellschaft für Audiologie. Bochum, Germany. 2015-03-04 - 2015-03-07.

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Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Vavatzanidis, Niki1, 2, Autor           
Mürbe, Dirk2, Autor
Hahne, Anja2, Autor           
Affiliations:
1Department Neuropsychology, MPI for Human Cognitive and Brain Sciences, Max Planck Society, ou_634551              
2Saxonian Cochlear Implant Center, Department of Otorhinolaryngology, Technische Universität Dresden, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: Cochlear implants; Deafness; Children; Mismatch negativity; Stress pattern; EEG; Language acquisition
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n):
 Datum: 2015-03-07
 Publikationsstatus: Keine Angabe
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: -
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Titel: 18. Jahrestagung der Deutschen Gesellschaft für Audiologie
Veranstaltungsort: Bochum, Germany
Start-/Enddatum: 2015-03-04 - 2015-03-07

Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle

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