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  Nanolithographie mit selbstorganisierenden Masken

Spatz, J. P., Möller, M., & Ziemann, P. (1999). Nanolithographie mit selbstorganisierenden Masken. Physikalische Blätter, 55(12), 49-52. doi:10.1002/phbl.19990551213.

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PhysBlätter_55_1999_49.pdf (Any fulltext), 3MB
 
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PhysBlätter_55_1999_49.pdf
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Restricted (Max Planck Institute for Medical Research, MHMF; )
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application/pdf
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Creators

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 Creators:
Spatz, Joachim P.1, 2, Author           
Möller, Martin, Author
Ziemann, Paul, Author
Affiliations:
1Cellular Biophysics, Max Planck Institute for Medical Research, Max Planck Society, ou_2364731              
2Biophysical Chemistry, Institute of Physical Chemistry, University of Heidelberg, 69120 Heidelberg, Germany, ou_persistent22              

Content

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Free keywords: -
 Abstract: Die selbstorganisierende Anordnung von Makromolekülen auf Oberflächen ermöglicht es, Substrate mit anorganischen Clustern gezielt zu dekorieren. Dabei lassen sich Strukturgrößen von wenigen Nanometern erzielen. Dieses Verfahren bildet die Basis für eine Vielzahl fächerübergreifender Experimente und könnte in der Zukunft die herkömmlichen Lithographieverfahren ergänzen.

Details

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Language(s):
 Dates: 1999-12-01
 Publication Status: Issued
 Pages: 4
 Publishing info: -
 Table of Contents: -
 Rev. Type: Peer
 Identifiers: DOI: 10.1002/phbl.19990551213
 Degree: -

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Legal Case

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Project information

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Source 1

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Title: Physikalische Blätter
Source Genre: Journal
 Creator(s):
Affiliations:
Publ. Info: Weinheim : Physik-Verlag.
Pages: - Volume / Issue: 55 (12) Sequence Number: - Start / End Page: 49 - 52 Identifier: ISSN: 0031-9279
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/958480218756