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  UV laser photofragment GaCH3 detected by far UV laser mass spectrometry.

Zhang, Y., Beuermann, T., & Stuke, M. (1989). UV laser photofragment GaCH3 detected by far UV laser mass spectrometry. Applied Physics B, 48, 97-100. doi:10.1007/BF00694425.

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2400820.pdf (Verlagsversion), 313KB
Name:
2400820.pdf
Beschreibung:
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Öffentlich
MIME-Typ / Prüfsumme:
application/pdf / [MD5]
Technische Metadaten:
Copyright Datum:
-
Copyright Info:
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Lizenz:
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Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Zhang, Y.1, Autor           
Beuermann, T.1, Autor           
Stuke, M.1, Autor           
Affiliations:
1Abteilung Laserphysik, MPI for biophysical chemistry, Max Planck Society, ou_578547              

Inhalt

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Schlagwörter: -
 Zusammenfassung: The GaCH3 radical has been directly detected by far UV laser mass spectrometry for the first time, as a UV laser photofragment from gaseous trimethylgallium Ga(CH3)3, but not from triethylgallium, Ga(C2H5)3. The relative yield Y(λ) of GaCH3 was measured, at various UV photolysis laser wavelengths λ=193, 210 and 245 nm, and follows the absorption spectrum of the Ga(CH3)3 precursor molecules.

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 1989-01
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: DOI: 10.1007/BF00694425
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Applied Physics B
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 48 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 97 - 100 Identifikator: -