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  Quantitative reconstruction of Ta/Si multilayer depth profiles obtained by Time-of-Flight-Secondary-Ion-Mass-Spectrometry (ToF-SIMS) using Cs+ ion sputtering

Liu, Y., Hofmann, S., Wang, J. Y., & Chakraborty, B. R. (2015). Quantitative reconstruction of Ta/Si multilayer depth profiles obtained by Time-of-Flight-Secondary-Ion-Mass-Spectrometry (ToF-SIMS) using Cs+ ion sputtering. Thin Solid Films, 591, 60-65. doi:10.1016/j.tsf.2015.07.081.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-002C-E44A-A Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-002C-E44B-8
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Liu, Y.1, Autor
Hofmann, Siegfried2, Autor           
Wang, J. Y.1, Autor
Chakraborty, B. R.3, Autor
Affiliations:
1Department of Physics, Shantou University, 243 Daxue Road, Shantou, 515063 Guangdong, China, ou_persistent22              
2Emeriti and Others, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497650              
3Sophisticated Instrumentation Division, CSIR-National Physical Laboratory, Dr.K.S. Krishnan Road, New Delhi 110012, India, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: Emeriti and Others
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2015-09-30
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: DOI: 10.1016/j.tsf.2015.07.081
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Thin Solid Films
  Kurztitel : Thin Solid Films
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: Lausanne, Switzerland, etc. : Elsevier
Seiten: - Band / Heft: 591 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 60 - 65 Identifikator: ISSN: 0040-6090
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954925449792