Quantitative reconstruction of Ta/Si multilayer depth profiles obtained by 
Time-of-Flight-Secondary-Ion-Mass-Spectrometry (ToF-SIMS) using Cs+ ion 
sputtering

Liu, Y.; Hofmann, Siegfried; Wang, J. Y.; Chakraborty, B. R.

doi:10.1016/j.tsf.2015.07.081

Quantitative reconstruction of Ta/Si multilayer depth profiles obtained by Time-of-Flight-Secondary-Ion-Mass-Spectrometry (ToF-SIMS) using Cs+ ion sputtering

Liu, Y., Hofmann, S., Wang, J. Y., & Chakraborty, B. R. (2015). Quantitative reconstruction of Ta/Si multilayer depth profiles obtained by Time-of-Flight-Secondary-Ion-Mass-Spectrometry (ToF-SIMS) using Cs+ ion sputtering. Thin Solid Films, 591, 60-65. doi:10.1016/j.tsf.2015.07.081.

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資料種別: 学術論文

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Liu, Y.¹, 著者
Hofmann, Siegfried², 著者
Wang, J. Y.¹, 著者
Chakraborty, B. R.³, 著者

所属:
1Department of Physics, Shantou University, 243 Daxue Road, Shantou, 515063 Guangdong, China, ou_persistent22
2Emeriti and Others, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497650
3Sophisticated Instrumentation Division, CSIR-National Physical Laboratory, Dr.K.S. Krishnan Road, New Delhi 110012, India, ou_persistent22

内容説明

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キーワード: Emeriti and Others

要旨: -

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言語: eng - English

日付: 出版: 2015-09-30

出版の状態: 出版

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出版情報: -

目次: -

査読: -

識別子（DOI, ISBNなど）: DOI: 10.1016/j.tsf.2015.07.081

学位: -

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出版物名: Thin Solid Films

省略形 : Thin Solid Films

種別: 学術雑誌

著者・編者:

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出版社, 出版地: Lausanne, Switzerland, etc. : Elsevier

ページ: - 巻号: 591 通巻号: - 開始・終了ページ: 60 - 65 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: ISSN: 0040-6090
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954925449792

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