Depth resolution in sputter profiling revisited

Hofmann, Siegfried; Liu, Y.; Jian, W.; Kang, H. L.; Wang, J. Y.

doi:10.1002/sia.6039

Depth resolution in sputter profiling revisited

Hofmann, S., Liu, Y., Jian, W., Kang, H. L., & Wang, J. Y. (2016). Depth resolution in sputter profiling revisited. Surface and Interface Analysis, 48(13), 1354-1369. doi:10.1002/sia.6039.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-002D-0839-7 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-002D-083A-5

資料種別: 学術論文

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Hofmann, Siegfried¹, 著者
Liu, Y.², 著者
Jian, W.², 著者
Kang, H. L.², 著者
Wang, J. Y.², 著者

所属:
1Emeriti and Others, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497650
2Department of Physics, Shantou University, 243 Daxue Road, Shantou 515063, Guangdong, China, ou_persistent22

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キーワード: Emeriti and Others

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言語: eng - English

日付: オンライン出版: 2016-06-08出版: 2016

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識別子（DOI, ISBNなど）: DOI: 10.1002/sia.6039

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出版物名: Surface and Interface Analysis

種別: 学術雑誌

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出版社, 出版地: New York, NY : John Wiley & Sons

ページ: - 巻号: 48 (13) 通巻号: - 開始・終了ページ: 1354 - 1369 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: ISSN: 0142-2421
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954925471358

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