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  Chemical Sputtering oder Was treiben die Wasserstoffatome und Ionen gemeinsam auf der Oberfläche von a-C:H-Schichten?

Jacob, W., Hopf, C., & von Keudell, A. (2003). Chemical Sputtering oder Was treiben die Wasserstoffatome und Ionen gemeinsam auf der Oberfläche von a-C:H-Schichten?. Talk presented at 10. Erfahrungsaustauch "Oberflächentechnologie mit Plasmaprozessen". Mühlleithen. 2003-03-18 - 2003-03-20.

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 Creators:
Jacob, W.1, 2, Author              
Hopf, C.1, 2, Author              
von Keudell, A.1, 2, Author              
Affiliations:
1Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288              
2Centre for Interdisciplinary Plasma Science (CIPS), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_2074325              

Content

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Details

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Language(s): deu - German
 Dates:
 Publication Status: Not specified
 Pages: -
 Publishing info: -
 Table of Contents: -
 Rev. Type: -
 Identifiers: eDoc: 112667
 Degree: -

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Title: 10. Erfahrungsaustauch "Oberflächentechnologie mit Plasmaprozessen"
Place of Event: Mühlleithen
Start-/End Date: 2003-03-18 - 2003-03-20

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