Chemical Sputtering oder Was treiben die Wasserstoffatome und Ionen gemeinsam 
auf der Oberfläche von a-C:H-Schichten?

Jacob, W.; Hopf, C.; von Keudell, A.

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Chemical Sputtering oder Was treiben die Wasserstoffatome und Ionen gemeinsam auf der Oberfläche von a-C:H-Schichten?

Jacob, W., Hopf, C., & von Keudell, A. (2003). Chemical Sputtering oder Was treiben die Wasserstoffatome und Ionen gemeinsam auf der Oberfläche von a-C:H-Schichten?. Talk presented at 10. Erfahrungsaustauch "Oberflächentechnologie mit Plasmaprozessen". Mühlleithen. 2003-03-18 - 2003-03-20.

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Item Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-002E-9420-6 Version Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-002E-9421-4

Genre: Talk

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Creators:
Jacob, W.^{1, 2}, Author
Hopf, C.^{1, 2}, Author
von Keudell, A.^{1, 2}, Author

Affiliations:
1Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288
2Centre for Interdisciplinary Plasma Science (CIPS), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_2074325

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Language(s): deu - German

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Title: 10. Erfahrungsaustauch "Oberflächentechnologie mit Plasmaprozessen"

Place of Event: Mühlleithen

Start-/End Date: 2003-03-18 - 2003-03-20

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