Deuterium Retention in Tungsten-doped Amorphous Carbon Films Exposed to 
Deuterium Plasma

Wang, P.; Jacob, W.; Manhard, A.; Balden, M.

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Deuterium Retention in Tungsten-doped Amorphous Carbon Films Exposed to Deuterium Plasma

Wang, P., Jacob, W., Manhard, A., & Balden, M. (2012). Deuterium Retention in Tungsten-doped Amorphous Carbon Films Exposed to Deuterium Plasma. Poster presented at 20th International Conference on Plasma Surface Interactions 2012 (PSI 20), Aachen.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0000-89B5-9 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0000-89B6-8

資料種別: ポスター

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Wang, P.¹, 著者
Jacob, W.¹, 著者
Manhard, A.¹, 著者
Balden, M.¹, 著者

所属:
1Plasma Edge and Wall (E2M), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856327

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言語: eng - English

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出版の状態: 不明

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識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 609949

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