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  Magnetron-sputtered Tungsten-nitride Films as Model for Nitrogen-implanted Tungsten Surfaces

Gao, L., Wang, P., & Jacob, W. (2013). Magnetron-sputtered Tungsten-nitride Films as Model for Nitrogen-implanted Tungsten Surfaces. Poster presented at WE-Heraeus-Seminar "Ionised- and Ion-assisted PVD: Principles and Current Trends", Dresden.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0000-67EC-3 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0000-67ED-2
Genre: Poster

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Gao, L.1, Autor           
Wang, P.1, Autor           
Jacob, W.1, Autor           
Affiliations:
1Plasma Edge and Wall (E2M), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856327              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum:
 Publikationsstatus: Keine Angabe
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 634780
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Titel: WE-Heraeus-Seminar "Ionised- and Ion-assisted PVD: Principles and Current Trends"
Veranstaltungsort: Dresden
Start-/Enddatum: 2013-06-26 - 2013-06-28

Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle

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