Chemical Sputtering: eine Einführung am Beispiel Kohlenstoff und Wasserstoff

Jacob, W.

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Chemical Sputtering: eine Einführung am Beispiel Kohlenstoff und Wasserstoff

Jacob, W. (2013). Chemical Sputtering: eine Einführung am Beispiel Kohlenstoff und Wasserstoff. Talk presented at XX. Erfahrungsaustausch Oberflächentechnologie mit Plasma- und Ionenstrahlprozessen. Mühlleithen. 2013-03-05 - 2013-03-08.

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Item Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0000-67F6-7 Version Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0000-67F7-6

Genre: Talk

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Jacob, W.¹, Author

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1Plasma Edge and Wall (E2M), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856327

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Language(s): deu - German

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Identifiers: eDoc: 635206

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Title: XX. Erfahrungsaustausch Oberflächentechnologie mit Plasma- und Ionenstrahlprozessen

Place of Event: Mühlleithen

Start-/End Date: 2013-03-05 - 2013-03-08

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