Chemically resolved depth profiles from synchrotron XPS of oxygen ion-driven 
reactions with Be2W

Köppen, M.; Schmid, K.; Löchel, H.; Phan, T.-V.; Riesch, J.; Vollmer, A.; Linsmeier, Ch.

Chemically resolved depth profiles from synchrotron XPS of oxygen ion-driven reactions with Be2W

Köppen, M., Schmid, K., Löchel, H., Phan, T.-V., Riesch, J., Vollmer, A., & Linsmeier, C. (2012). Chemically resolved depth profiles from synchrotron XPS of oxygen ion-driven reactions with Be2W. Poster presented at 25th Symposium on Surface Science 2012 (3S'12), St. Christoph/Arlberg.

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資料種別: ポスター

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Köppen, M.¹, 著者
Schmid, K.², 著者
Löchel, H., 著者
Phan, T.-V.³, 著者
Riesch, J.², 著者
Vollmer, A., 著者
Linsmeier, Ch.², 著者

所属:
1W7-X: Engineering (EN), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856300
2Plasma Edge and Wall (E2M), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856327
3Material Research (MF), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856328

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