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  Soft colloidal lithography

Weiler, M., & Pacholski, C. (2017). Soft colloidal lithography. RSC Advances, 7(18), 10688-10691. doi: 10.1039/C7RA00338B.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0000-F30A-3 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0000-F30B-2
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Weiler, Markus1, 2, Autor           
Pacholski, Claudia1, 2, 3, Autor           
Affiliations:
1Dept. New Materials and Biosystems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497649              
2Biophysical Chemistry, Institute of Physical Chemistry, University of Heidelberg, 69120 Heidelberg, Germany, ou_persistent22              
3University of Potsdam, Institute of Chemistry, Am Mühlenberg 3, OT Golm, 14476 Potsdam, Germany , ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: Abt. Spatz
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2017-02-022017-02-10
 Publikationsstatus: Online veröffentlicht
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: DOI: 10.1039/C7RA00338B
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: RSC Advances
  Kurztitel : RSC Adv.
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: Cambridge, UK : Royal Society of Chemistry
Seiten: - Band / Heft: 7 (18) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 10688 - 10691 Identifikator: ISSN: 2046-2069
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/2046-2069