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  Soft colloidal lithography

Weiler, M., & Pacholski, C. (2017). Soft colloidal lithography. RSC Advances, 7(18), 10688-10691. doi: 10.1039/C7RA00338B.

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基本情報

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0000-F30A-3 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0000-F30B-2
資料種別: 学術論文

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作成者

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 作成者:
Weiler, Markus1, 2, 著者           
Pacholski, Claudia1, 2, 3, 著者           
所属:
1Dept. New Materials and Biosystems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497649              
2Biophysical Chemistry, Institute of Physical Chemistry, University of Heidelberg, 69120 Heidelberg, Germany, ou_persistent22              
3University of Potsdam, Institute of Chemistry, Am Mühlenberg 3, OT Golm, 14476 Potsdam, Germany , ou_persistent22              

内容説明

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キーワード: Abt. Spatz
 要旨: -

資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2017-02-022017-02-10
 出版の状態: オンラインで出版済み
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: -
 識別子（DOI, ISBNなど）: DOI: 10.1039/C7RA00338B
 学位: -

関連イベント

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訴訟

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Project information

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出版物 1

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出版物名: RSC Advances
  省略形 : RSC Adv.
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: Cambridge, UK : Royal Society of Chemistry
ページ: - 巻号: 7 (18) 通巻号: - 開始・終了ページ: 10688 - 10691 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: ISSN: 2046-2069
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/2046-2069