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  A New Type of Dislocation Mechanism in Ultrathin Copper Films

Balk, T. J., Dehm, G., & Arzt, E. (2002). A New Type of Dislocation Mechanism in Ultrathin Copper Films. In Materials Research Society Symposium - Proceedings (pp. 53-58). doi:10.1557/PROC-695-L2.7.1.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0001-8C6C-9 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0001-8C6F-6
Genre: Konferenzbeitrag

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Balk, Thomas John1, Autor           
Dehm, Gerhard1, Autor           
Arzt, Eduard1, Autor           
Affiliations:
1Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497655              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2011-03-212002
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: DOI: 10.1557/PROC-695-L2.7.1
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Titel: Materials Research Society Symposium L - Thin Films: Stresses and Mechanical Properties IX
Veranstaltungsort: Boston, MA, USA
Start-/Enddatum: 2001-11-26 - 2001-11-30

Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Materials Research Society Symposium - Proceedings
Genre der Quelle: Konferenzband
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 695 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 53 - 58 Identifikator: -