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  Formation Mechanism, Growth Kinetics, and Stability Limits of Graphene Adlayers in Metal‐Catalyzed CVD Growth

Wang, Z.-J., Ding, F., Eres, G., Antonietti, M., Schlögl, R., & Willinger, M. G. (2018). Formation Mechanism, Growth Kinetics, and Stability Limits of Graphene Adlayers in Metal‐Catalyzed CVD Growth. Advanced Materials Interfaces,. doi:10.1002/admi.201800255.

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基本情報

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0001-6A20-4 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0002-04AB-9
資料種別: 学術論文

ファイル

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:
In-situ-CVD-Pt-self-limiting.pdf (全文テキスト(全般)), 919KB
ファイルのパーマリンク:
https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0002-04AC-8
ファイル名:
In-situ-CVD-Pt-self-limiting.pdf
説明:
-
OA-Status:
閲覧制限:
公開
MIMEタイプ / チェックサム:
application/pdf / [MD5]
技術的なメタデータ:
著作権日付:
2018
著作権情報:
Wiley
CCライセンス:
-

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作成者

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 作成者:
Wang, Zhu-Jun1, 著者           
Ding, Feng2, 3, 著者
Eres, Gyula4, 著者
Antonietti, Markus5, 著者
Schlögl, Robert1, 著者           
Willinger, Marc Georg1, 5, 著者           
所属:
1Inorganic Chemistry, Fritz Haber Institute, Max Planck Society, ou_24023              
2Center for Multidimensional Carbon Materials (CMCM), Institute for Basic Science (IBS), Ulsan 44919, Republic of Korea, ou_persistent22              
3School of Materials Science and Engineering, Ulsan National Institute of Science and Technology, Ulsan 44919, Republic of Korea, ou_persistent22              
4Materials Science and Technology Division, Oak Ridge National Laboratory Oak Ridge, TN 37831, USA, ou_persistent22              
5Department of Colloid Chemistry, Max Planck Institute of Colloids and Interfaces, Potsdam D-14424, Germany, ou_persistent22              

内容説明

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キーワード: -
 要旨: A new mechanism by which catalytic chemical vapor deposition of graphene spontaneously terminates at a single layer on Pt foils is discussed. This self‐limited growth regime is identified by direct imaging of adlayer graphene evolution using in‐situ environmental scanning electron microscopy. Two fundamentally different mechanisms for adlayer nucleation are revealed. Besides primary nucleation, which is the standard nucleation that occurs only at the onset of growth, a secondary nucleation of adlayers is observed near full coverage of the substrate. Direct observation reveals layer‐dependent growth kinetics and the establishment of a dynamic equilibrium between the forward reaction of carbon incorporation and the reverse reaction of graphene etching. Increasing coverage of the active catalyst gives rise to a spontaneous reversal of adlayer evolution from growth to etching. The growth reversal has important practical benefits. It creates a self‐limited growth regime in which all adlayer graphene is removed and it enables large‐scale production of 100% single‐layer graphene.

資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2018-04-042018-02-132018-05-14
 出版の状態: オンラインで出版済み
 ページ: 7
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子(DOI, ISBNなど): DOI: 10.1002/admi.201800255
 学位: -

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Project information

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出版物 1

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出版物名: Advanced Materials Interfaces
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: Weinheim : Wiley-VCH
ページ: 7 巻号: - 通巻号: 1800255 開始・終了ページ: - 識別子(ISBN, ISSN, DOIなど): ISSN: 2196-7350
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/2196-7350