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  A Test Facility to Investigate Sheath Effects during Ion Cyclotron Resonance Heating

Crombe, K., D'Inca, R., Faudot, E., Faugel, H., Kostic, A., Usoltceva, M., Noterdaeme, J.-M., Nikiforov, A., Fuenfgelder, H., Heuraux, S., Jacquot, J., Louche, F., Ochoukov, R., Shesterikov, I., & Van Eester, D. (2019). A Test Facility to Investigate Sheath Effects during Ion Cyclotron Resonance Heating. In H., Jelassi, & D., Benredjem (Eds.), Plasma Science and Technology (pp. 147-165). London: IntechOpen.

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基本情報

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0003-BAAE-8 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0003-BAAF-7
資料種別: 書籍の一部
副タイトル : Chapter 8

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:
crombe_test.pdf (付録資料), 3MB
 
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-
ファイル名:
crombe_test.pdf
説明:
-
OA-Status:
閲覧制限:
非公開
MIMEタイプ / チェックサム:
application/pdf
技術的なメタデータ:
著作権日付:
-
著作権情報:
-
CCライセンス:
-

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URL:
https://doi.org/10.5772/intechopen.76730 (出版社版)
説明:
Open Access
OA-Status:

作成者

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 作成者:
Crombe, K.1, 著者
D'Inca, R.2, 著者           
Faudot, E.1, 著者
Faugel, H.2, 著者           
Kostic, A.2, 著者           
Usoltceva, M.1, 著者
Noterdaeme, J.-M.2, 著者           
Nikiforov, A.1, 3, 著者
Fuenfgelder, H.2, 著者
Heuraux, S.2, 著者
Jacquot, J.2, 著者           
Louche, F.3, 著者
Ochoukov, R.1, 2, 著者           
Shesterikov, I.1, 著者
Van Eester, D.1, 3, 著者
所属:
1External Organizations, ou_persistent22              
2Tokamak Scenario Development (E1), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856321              
3Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, Boltzmannstraße 2, D-85748 Garching, DE, ou_1856284              

内容説明

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資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2019
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子（DOI, ISBNなど）: DOI: 10.5772/intechopen.76730
 学位: -

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訴訟

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Project information

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出版物 1

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非表示:
出版物名: Plasma Science and Technology
  副タイトル : Basic Fundamentals and Modern Applications
種別: 書籍
 著者・編者:
Jelassi, H.1, 編集者
Benredjem, D.1, 編集者
所属:
1 External Organizations, ou_persistent22            
出版社, 出版地: London : IntechOpen
ページ: - 巻号: - 通巻号: - 開始・終了ページ: 147 - 165 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: ISBN: 978-1-78985-240-0
ISBN: 978-1-78985-239-4 (print)