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  Electron microscopic investigation of the influence of plasma parameters on VOx films deposited by a plasma ion assisted process

Frank, A., Dias, M., Hieke, S. W., Kruth, A., & Scheu, C. (2019). Electron microscopic investigation of the influence of plasma parameters on VOx films deposited by a plasma ion assisted process. Talk presented at E-MRS 2019 Spring Meeting. Nice, France. 2019-05-27 - 2019-05-31.

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Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Frank, Anna1, Autor           
Dias, Miguel2, Autor           
Hieke, Stefan Werner1, Autor           
Kruth, Angela3, Autor           
Scheu, Christina1, Autor           
Affiliations:
1Nanoanalytics and Interfaces, Independent Max Planck Research Groups, Max-Planck-Institut für Eisenforschung GmbH, Max Planck Society, ou_2054294              
2INP Greifswald – Leibniz Institute for Plasma Science and Technology, 17489 Greifswald, Germany, ou_persistent22              
3Leibniz Institute for Plasma Science and Technology, 17489 Greifswald, Germany, ou_persistent22              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2019-05
 Publikationsstatus: Keine Angabe
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: -
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Titel: E-MRS 2019 Spring Meeting
Veranstaltungsort: Nice, France
Start-/Enddatum: 2019-05-27 - 2019-05-31

Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle

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