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  Preferential sputtering effects in depth profiling of multilayers with SIMS, XPS and AES

Hofmann, S., Zhou, G., Kovac, J., Drev, S., Lian, S. Y., Lin, B., et al. (2019). Preferential sputtering effects in depth profiling of multilayers with SIMS, XPS and AES. Applied Surface Science, 483, 140-155. doi:10.1016/j.apsusc.2019.03.211.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0004-58D1-D Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0004-58D2-C
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Hofmann, S.1, 2, Autor           
Zhou, G.2, Autor
Kovac, J.3, Autor
Drev, S.3, Autor
Lian, S. Y.2, Autor
Lin, B.2, Autor
Liu, Y.2, Autor
Wang, J. Y.2, Autor
Affiliations:
1Emeriti and Others, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497650              
2Department of Physics, Shantou University, 243 Daxue Road, Shantou 515063, Guangdong, China, ou_persistent22              
3Jozef Stefan Institute, Jamova cesta 39, 1000 Ljubljana, Slovenia, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: Emeriti and Others
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2019-03-282019-07-31
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: DOI: 10.1016/j.apsusc.2019.03.211
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Applied Surface Science
  Kurztitel : Appl. Surf. Sci.
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: Amsterdam : Elsevier B.V.
Seiten: - Band / Heft: 483 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 140 - 155 Identifikator: ISSN: 0169-4332
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954928576736