Improving OFF‐State Bias‐Stress Stability in High‐Mobility Conjugated Polymer 
Transistors with an Antisolvent Treatment

Nguyen, Malgorzata; Kraft, Ulrike; Tan, Wen Liang; Dobryden, Illia; Broch, Katharina; Zhang, Weimin; Un, Hio‐Ieng; Simatos, Dimitrios; Venkateshavaran, Deepak; McCulloch, Iain; Claesson, Per M.; McNeill, Christopher R.; Sirringhaus, Henning

doi:10.1002/adma.202205377

Improving OFF‐State Bias‐Stress Stability in High‐Mobility Conjugated Polymer Transistors with an Antisolvent Treatment

Nguyen, M., Kraft, U., Tan, W. L., Dobryden, I., Broch, K., Zhang, W., Un, H., Simatos, D., Venkateshavaran, D., McCulloch, I., Claesson, P. M., McNeill, C. R., & Sirringhaus, H. (2023). Improving OFF‐State Bias‐Stress Stability in High‐Mobility Conjugated Polymer Transistors with an Antisolvent Treatment. Advanced Materials, 35(16):. doi:10.1002/adma.202205377.

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資料種別: 学術論文

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Advanced Materials - 2022 - Nguyen - Improving OFF‐State Bias‐Stress Stability in High‐Mobility Conjugated Polymer.pdf (出版社版), 6MB

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2023

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Nguyen, Malgorzata, 著者
Kraft, Ulrike¹, 著者
Tan, Wen Liang, 著者
Dobryden, Illia, 著者
Broch, Katharina, 著者
Zhang, Weimin, 著者
Un, Hio‐Ieng, 著者
Simatos, Dimitrios, 著者
Venkateshavaran, Deepak, 著者
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Claesson, Per M., 著者
McNeill, Christopher R., 著者
Sirringhaus, Henning, 著者

所属:
1Dept. Blom: Molecular Electronics, MPI for Polymer Research, Max Planck Society, ou_1800284

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言語: eng - English

日付: オンライン出版: 2022-11-14出版: 2023-04-20

出版の状態: 出版

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識別子（DOI, ISBNなど）: DOI: 10.1002/adma.202205377

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出版物名: Advanced Materials

その他 : Adv. Mater.

種別: 学術雑誌

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出版社, 出版地: Weinheim : Wiley-VCH

ページ: - 巻号: 35 (16) 通巻号: 2205377 開始・終了ページ: - 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: ISSN: 0935-9648
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954925570855

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