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  Insights on the variability of Cu filament formation in the SiO2 electrolyte of quantized-conductance conductive bridge random access memory devices

Maudet, F., Hammud, A., Wollgarten, M., Deshpande, V., & Dubourdieu, C. (2023). Insights on the variability of Cu filament formation in the SiO2 electrolyte of quantized-conductance conductive bridge random access memory devices. Nanotechnology, 34(24):. doi:10.1088/1361-6528/acbcd7.

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基本情報

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-000D-123A-E 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-000D-123D-B
資料種別: 学術論文

ファイル

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:
Maudet_2023_Nanotechnology_34_245203.pdf (出版社版), 974KB
ファイルのパーマリンク:
https://hdl.handle.net/21.11116/0000-000D-123C-C
ファイル名:
Maudet_2023_Nanotechnology_34_245203.pdf
説明:
-
OA-Status:
Hybrid
閲覧制限:
公開
MIMEタイプ / チェックサム:
application/pdf / [MD5]
技術的なメタデータ:
著作権日付:
2023
著作権情報:
The Author(s)

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作成者

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 作成者:
Maudet, Florian, 著者
Hammud, Adnan1, 著者           
Wollgarten, Markus, 著者
Deshpande, Veeresh, 著者
Dubourdieu, Catherine, 著者
所属:
1Inorganic Chemistry, Fritz Haber Institute, Max Planck Society, ou_24023              

内容説明

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キーワード: -
 要旨: Conductive bridge random access memory devices such as Cu/SiO2/W are promising candidates for applications in neuromorphic computing due to their fast, low-voltage switching, multiple-conductance states, scalability, low off-current, and full compatibility with advanced Si CMOS technologies. The conductance states, which can be quantized, originate from the formation of a Cu filament in the SiO2 electrolyte due to cation-migration-based electrochemical processes. A major challenge related to the filamentary nature is the strong variability of the voltage required to switch the device to its conducting state. Here, based on a statistical analysis of more than hundred fifty Cu/SiO2/W devices, we point to the key role of the activation energy distribution for copper ion diffusion in the amorphous SiO2. The cycle-to-cycle variability is modeled well when considering the theoretical energy landscape for Cu diffusion paths to grow the filament. Perspectives of this work point to developing strategies to narrow the distribution of activation energies in amorphous SiO2.

資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2023-01-032022-08-262023-02-172023-03-292023-06-11
 出版の状態: 出版
 ページ: 10
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子(DOI, ISBNなど): DOI: 10.1088/1361-6528/acbcd7
 学位: -

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出版物 1

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出版物名: Nanotechnology
  省略形 : Nanotechnology
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: Bristol, UK : IOP Pub.
ページ: 10 巻号: 34 (24) 通巻号: 245203 開始・終了ページ: - 識別子(ISBN, ISSN, DOIなど): ISSN: 0957-4484
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954925577042