Low-energy electron-induced processes in fluorinated copper phthalocyanine 
films observed by F- desorption: Why so little damage?

Menzel, Dietrich; Cloutier, Pierre; Sanche, Léon; Madey, Theodore E.

doi:10.1021/jp074269h

Low-energy electron-induced processes in fluorinated copper phthalocyanine films observed by F^- desorption: Why so little damage?

Menzel, D., Cloutier, P., Sanche, L., & Madey, T. E. (2007). Low-energy electron-induced processes in fluorinated copper phthalocyanine films observed by F^- desorption: Why so little damage? The Journal of Physical Chemistry A, 111(49), 12427-12433. doi:10.1021/jp074269h.

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資料種別: 学術論文

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Menzel, Dietrich¹, 著者
Cloutier, Pierre, 著者
Sanche, Léon, 著者
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1Chemical Physics, Fritz Haber Institute, Max Planck Society, ou_24022

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言語: eng - English

日付: 出版: 2007

出版の状態: 出版

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査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 342129
DOI: 10.1021/jp074269h

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出版物名: The Journal of Physical Chemistry A

出版物の別名 : J. Phys. Chem. A

種別: 学術雑誌

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ページ: - 巻号: 111 (49) 通巻号: - 開始・終了ページ: 12427 - 12433 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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