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  Low temperature decomposition of NO on ordered alumina films

Schauermann, S., Johánek, V., Laurin, M., Libuda, J., & Freund, H.-J. (2003). Low temperature decomposition of NO on ordered alumina films. Chemical Physics Letters, 381(3-4), 298-305. doi:10.1016/j.cplett.2003.09.101.

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基本情報

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資料種別: 学術論文

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作成者

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 作成者:
Schauermann, Swetlana1, 著者           
Johánek, Viktor1, 著者           
Laurin, Mathias1, 著者           
Libuda, Jörg1, 著者           
Freund, Hans-Joachim1, 著者           
所属:
1Chemical Physics, Fritz Haber Institute, Max Planck Society, ou_24022              

内容説明

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資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2003
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子(DOI, ISBNなど): eDoc: 174587
DOI: 10.1016/j.cplett.2003.09.101
 学位: -

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出版物 1

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出版物名: Chemical Physics Letters
  出版物の別名 : Chem. Phys. Lett.
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: -
ページ: - 巻号: 381 (3-4) 通巻号: - 開始・終了ページ: 298 - 305 識別子(ISBN, ISSN, DOIなど): -