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  Resonant interferometric lithography beyond the diffraction limit

Kiffner, M., Evers, J., & Zubairy, M. S. (2008). Resonant interferometric lithography beyond the diffraction limit. Physical Review Letters, 100(7):. doi:10.1103/PhysRevLett.100.073602.

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基本情報

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資料種別: 学術論文

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作成者

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 作成者:
Kiffner, M.1, 著者           
Evers, J.1, 著者           
Zubairy, M. S.1, 著者           
所属:
1Division Prof. Dr. Christoph H. Keitel, MPI for Nuclear Physics, Max Planck Society, ou_904546              

内容説明

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資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2008-02-19
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子(DOI, ISBNなど): DOI: 10.1103/PhysRevLett.100.073602
 学位: -

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出版物 1

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出版物名: Physical Review Letters
  出版物の別名 : Phys. Rev. Lett.
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: -
ページ: - 巻号: 100 (7) 通巻号: 073602 開始・終了ページ: - 識別子(ISBN, ISSN, DOIなど): -