Hafnium oxide thin films deposited by reactive middle-frequency dual-magnetron 
sputtering

Pervak, Volodymyr; Krausz, Ferenc; Apolonskiy, Alexander

doi:10.1016/j.tsf.2007.03.180

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Hafnium oxide thin films deposited by reactive middle-frequency dual-magnetron sputtering

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Pervak, Volodymyr
Laboratory for Attosecond Physics, Max Planck Institute of Quantum Optics, Max Planck Society;

/persons/resource/persons60638

Krausz, Ferenc
Laboratory for Attosecond Physics, Max Planck Institute of Quantum Optics, Max Planck Society;

/persons/resource/persons60398

Apolonskiy, Alexander
Laboratory for Attosecond Physics, Max Planck Institute of Quantum Optics, Max Planck Society;

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Zitation

Pervak, V., Krausz, F., & Apolonskiy, A. (2007). Hafnium oxide thin films deposited by reactive middle-frequency dual-magnetron sputtering. Thin Solid Films, 515(20-21), 7984-7989. doi:10.1016/j.tsf.2007.03.180.

Zitierlink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-000F-B765-F

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