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Grundlagen und Anwendung einer neuen höhenregulierten Raster-Kelvin-Sonde für die Korrosionsforschung und Haftung auf Oberflächen

MPS-Authors
/persons/resource/persons125161

Grundmeier,  G.
Adhesion and Thin Films, Interface Chemistry and Surface Engineering, Max-Planck-Institut für Eisenforschung GmbH, Max Planck Society;
Christian Doppler Laboratory for Metal/Polymer Interfaces, Interface Chemistry and Surface Engineering, Max-Planck-Institut für Eisenforschung GmbH, Max Planck Society;

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Citation

Grundmeier, G. (2004). Grundlagen und Anwendung einer neuen höhenregulierten Raster-Kelvin-Sonde für die Korrosionsforschung und Haftung auf Oberflächen. Talk presented at 79. AGEF-Symposium, 25 Jahre Elektrochemie in Düsseldorf, Heinrich-Heine-Universität. Düsseldorf, Germany. 2004-11-18 - 2004-11-19.


Cite as: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0019-6339-7
Abstract
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