Deutsch
 
Benutzerhandbuch Datenschutzhinweis Impressum Kontakt
  DetailsucheBrowse

Datensatz

DATENSATZ AKTIONENEXPORT

Freigegeben

Zeitschriftenartikel

Chemical Vapor Deposition of N-Doped Graphene and Carbon Films: The Role of Precursors and Gas Phase

MPG-Autoren
/persons/resource/persons129078

Ito,  Yoshikazu
Dept. Müllen: Synthetic Chemistry, MPI for Polymer Research, Max Planck Society;

/persons/resource/persons48680

Sachdev,  Hermann
Dept. Müllen: Synthetic Chemistry, MPI for Polymer Research, Max Planck Society;

/persons/resource/persons48459

Müllen,  Klaus
Dept. Müllen: Synthetic Chemistry, MPI for Polymer Research, Max Planck Society;

Externe Ressourcen
Es sind keine Externen Ressourcen verfügbar
Volltexte (frei zugänglich)

Chemical_Vapor_Depostion(38).pdf
(beliebiger Volltext), 3MB

Ergänzendes Material (frei zugänglich)
Es sind keine frei zugänglichen Ergänzenden Materialien verfügbar
Zitation

Ito, Y., Christodoulou, C., Nardi, M. V., Koch, N., Sachdev, H., & Müllen, K. (2014). Chemical Vapor Deposition of N-Doped Graphene and Carbon Films: The Role of Precursors and Gas Phase. ACS Nano, 8(4), 3337-3346. doi:10.1021/nn405661b.


Zitierlink: http://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0019-B6C1-1
Zusammenfassung
Es ist keine Zusammenfassung verfügbar