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Bericht

Optimizing Photo Mask Layout for Grey‐tone Lithography

MPG-Autoren
/persons/resource/persons44640

Hopf,  Jörn
Programming Logics, MPI for Informatics, Max Planck Society;

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Zitation

Hopf, J.(1996). Optimizing Photo Mask Layout for Grey‐tone Lithography (140). IBFI GmbH, Schloss Dagstuhl, D‐66687 Wadern, Germany: IBFI.


Zitierlink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0023-C685-F
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