Surface loss probabilities of the dominant neutral precursors for film growth 
in methane and acetylene discharges

Hopf, C.; Letourneur, K.; Jacob, W.; Schwarz-Selinger, T.; von Keudell, A.

doi:10.1063/1.124184

Datensatz

DATENSATZ AKTIONENEXPORT

Zur Ablage hinzufügen

Lokale TagsFreigabegeschichteDetailsÜbersicht

Freigegeben

Zeitschriftenartikel

Surface loss probabilities of the dominant neutral precursors for film growth in methane and acetylene discharges

MPG-Autoren

/persons/resource/persons109440

Hopf, C.
Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

/persons/resource/persons109489

Jacob, W.
Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

/persons/resource/persons110460

Schwarz-Selinger, T.
Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

/persons/resource/persons109597

von Keudell, A.
Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

Externe Ressourcen

Es sind keine externen Ressourcen hinterlegt

Volltexte (beschränkter Zugriff)

Für Ihren IP-Bereich sind aktuell keine Volltexte freigegeben.

Volltexte (frei zugänglich)

Es sind keine frei zugänglichen Volltexte in PuRe verfügbar

Ergänzendes Material (frei zugänglich)

Es sind keine frei zugänglichen Ergänzenden Materialien verfügbar

Zitation

Hopf, C., Letourneur, K., Jacob, W., Schwarz-Selinger, T., & von Keudell, A. (1999). Surface loss probabilities of the dominant neutral precursors for film growth in methane and acetylene discharges. Applied Physics Letters, 74(25), 3800-3802. doi:10.1063/1.124184.

Zitierlink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-8546-A

Zusammenfassung

Es ist keine Zusammenfassung verfügbar