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Zeitschriftenartikel

Silicide formation by high-temperature reaction of Rh with model SiO2 films

MPG-Autoren
/persons/resource/persons109661

Kohl,  A.
Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

/persons/resource/persons110618

Taglauer,  E.
Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

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Zitation

Labich, S., Kohl, A., Taglauer, E., & Knözinger, H. (1998). Silicide formation by high-temperature reaction of Rh with model SiO2 films. Journal of Chemical Physics, 109(6), 2052-2055. doi:10.1063/1.476784.


Zitierlink: http://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-8819-3
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