Role of hydrogen ions in plasma‐enhanced chemical vapor deposition of 
hydrocarbon films, investigated by in situ ellipsometry

Keudell, A. von; Jacob, W.; Fukarek, W.

doi:10.1063/1.113229

Datensatz

DATENSATZ AKTIONENEXPORT

Zur Ablage hinzufügen

Lokale TagsFreigabegeschichteDetailsÜbersicht

Freigegeben

Zeitschriftenartikel

Role of hydrogen ions in plasma‐enhanced chemical vapor deposition of hydrocarbon films, investigated by in situ ellipsometry

MPG-Autoren

/persons/resource/persons109597

Keudell, A. von
Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

/persons/resource/persons109489

Jacob, W.
Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

Externe Ressourcen

Es sind keine externen Ressourcen hinterlegt

Volltexte (beschränkter Zugriff)

Für Ihren IP-Bereich sind aktuell keine Volltexte freigegeben.

Volltexte (frei zugänglich)

Es sind keine frei zugänglichen Volltexte in PuRe verfügbar

Ergänzendes Material (frei zugänglich)

Es sind keine frei zugänglichen Ergänzenden Materialien verfügbar

Zitation

Keudell, A. v., Jacob, W., & Fukarek, W. (1995). Role of hydrogen ions in plasma‐enhanced chemical vapor deposition of hydrocarbon films, investigated by in situ ellipsometry. Applied Physics Letters, 66(11), 1322-1324. doi:10.1063/1.113229.

Zitierlink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-8F21-C

Zusammenfassung

Es ist keine Zusammenfassung verfügbar