A High Yield RF Plasma Source for Neutral Beam Injection Systems

Kraus, W.; Van Ingen, A.M.; Kaufmann, M.; Nijsen-Vis, A.; Klippel, H.T.; ), (Eds.

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Konferenzbeitrag

A High Yield RF Plasma Source for Neutral Beam Injection Systems

MPG-Autoren

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Kraus, W.
Technology (TE), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

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Kaufmann, M.
Experimental Plasma Physics 1 (E1), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

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Zitation

Kraus, W., Van Ingen, A., Kaufmann, M., Nijsen-Vis, A., Klippel, H., & ), (. (1989). A High Yield RF Plasma Source for Neutral Beam Injection Systems. Fusion Technology 1988, Vol. 1, 495-498.

Zitierlink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-C1D0-C

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