ECR Plasmas for Thin-Film Depostition

Wilhelm, R.; Schlueter, H.; Shivarova, A.

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ECR Plasmas for Thin-Film Depostition

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Wilhelm, R.
Technology (TE), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

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引用

Wilhelm, R., Schlueter, H., & Shivarova, A. (1999). ECR Plasmas for Thin-Film Depostition. In Advanced Technologies Based on Wave and Beam Generated Plasmas (pp. 111-122). Kluwer Academic Publ.

引用: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-D2C1-3

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