Deposition of thermally stable tungsten nitride thin films by reactive 
magnetron sputtering

Abdelhameed, A. H.; Jacob, W.

doi:10.1016/j.surfcoat.2019.07.046

Datensatz

DATENSATZ AKTIONENEXPORT

Zur Ablage hinzufügen

Lokale TagsFreigabegeschichteDetailsÜbersicht

Freigegeben

Zeitschriftenartikel

Deposition of thermally stable tungsten nitride thin films by reactive magnetron sputtering

MPG-Autoren

/persons/resource/persons215477

Abdelhameed, A. H.
Plasma Edge and Wall (E2M), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

/persons/resource/persons109489

Jacob, W.
Plasma Edge and Wall (E2M), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

Externe Ressourcen

https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2019.07.046
(Verlagsversion)

Volltexte (beschränkter Zugriff)

Für Ihren IP-Bereich sind aktuell keine Volltexte freigegeben.

Volltexte (frei zugänglich)

Abdelhameed_Deposition.pdf
(beliebiger Volltext), 3MB

Ergänzendes Material (frei zugänglich)

Es sind keine frei zugänglichen Ergänzenden Materialien verfügbar

Zitation

Abdelhameed, A. H., & Jacob, W. (2019). Deposition of thermally stable tungsten nitride thin films by reactive magnetron sputtering. Surface and Coatings Technology, 375, 701-707. doi:10.1016/j.surfcoat.2019.07.046.

Zitierlink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0004-8001-9

Zusammenfassung

Es ist keine Zusammenfassung verfügbar