Oxygen hole character and lateral homogeneity in PrNiO2+delta thin films

Fürsich, K.; Pons, R.; Bluschke, M.; Ortiz, R. A.; Wintz, S.; Schierle, E.; Weigand, M.; Logvenov, G.; Schütz, G.; Keimer, B.; Benckiser, E.

doi:10.3389/fphy.2021.810220

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学術論文

Oxygen hole character and lateral homogeneity in PrNiO_2+delta thin films

MPS-Authors

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Wintz, S.
Dept. Modern Magnetic Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

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Schütz, G.
Dept. Modern Magnetic Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

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Fürsich, K., Pons, R., Bluschke, M., Ortiz, R. A., Wintz, S., Schierle, E., Weigand, M., Logvenov, G., Schütz, G., Keimer, B., & Benckiser, E. (2022). Oxygen hole character and lateral homogeneity in PrNiO_2+delta thin films. Frontiers in Physics, 9:. doi:10.3389/fphy.2021.810220.

引用: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-000A-57F4-1

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