Near-field lithography by two-photon-induced photocleavage of organic monolayers

Álvarez, M.; Best, A.; Unger, A.; Alonso, J. M.; del Campo, A.; Schmelzeisen, M.; Koynov, K.; Kreiter, M.

doi:10.1002/adfm.201000939

Near-field lithography by two-photon-induced photocleavage of organic monolayers

Álvarez, M., Best, A., Unger, A., Alonso, J. M., del Campo, A., Schmelzeisen, M., Koynov, K., & Kreiter, M. (2010). Near-field lithography by two-photon-induced photocleavage of organic monolayers. Advanced Funktional Functions, 20(24), 4265-4272. doi:10.1002/adfm.201000939.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-4F50-C 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-4F51-A

資料種別: 学術論文

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Álvarez, M.¹, 著者
Best, A.¹, 著者
Unger, A.¹, 著者
Alonso, J. M.², 著者
del Campo, A.², 著者
Schmelzeisen, M.¹, 著者
Koynov, K.¹, 著者
Kreiter, M.¹, 著者

所属:
1CIC nanoGUNE Consolider, San Sebastián, Spain, ou_persistent22
2Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497655

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; MPI für Polymerforschung; Abt. Arzt; AK Spiess;

要旨: -

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言語: eng - English

日付: 出版: 2010-10-15

出版の状態: 出版

ページ: -

出版情報: -

目次: -

査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 532539
DOI: 10.1002/adfm.201000939

学位: -

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出版物名: Advanced Funktional Functions

種別: 学術雑誌

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出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 20 (24) 通巻号: - 開始・終了ページ: 4265 - 4272 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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