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  Near-field lithography by two-photon-induced photocleavage of organic monolayers

Álvarez, M., Best, A., Unger, A., Alonso, J. M., del Campo, A., Schmelzeisen, M., Koynov, K., & Kreiter, M. (2010). Near-field lithography by two-photon-induced photocleavage of organic monolayers. Advanced Funktional Functions, 20(24), 4265-4272. doi:10.1002/adfm.201000939.

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基本情報

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資料種別: 学術論文

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作成者

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 作成者:
Álvarez, M.1, 著者
Best, A.1, 著者
Unger, A.1, 著者
Alonso, J. M.2, 著者           
del Campo, A.2, 著者           
Schmelzeisen, M.1, 著者
Koynov, K.1, 著者
Kreiter, M.1, 著者
所属:
1CIC nanoGUNE Consolider, San Sebastián, Spain, ou_persistent22              
2Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497655              

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; MPI für Polymerforschung; Abt. Arzt; AK Spiess;
 要旨: -

資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2010-10-15
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子(DOI, ISBNなど): eDoc: 532539
DOI: 10.1002/adfm.201000939
 学位: -

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訴訟

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Project information

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出版物 1

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出版物名: Advanced Funktional Functions
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: -
ページ: - 巻号: 20 (24) 通巻号: - 開始・終了ページ: 4265 - 4272 識別子(ISBN, ISSN, DOIなど): -